2단계
| 희생 인듐 층을 사용하여 백금 나노 구조를 생성하는 방법 |
| 차년도 | 1차년도 | 세부 | 2세부 |
| 지식재산권 | 특허 | 출원/등록 | 등록 |
| 출원/등록번호 | 10-2278221 | 출원/등록일 | 20210712 |
| 국내/국제 | 국내 | 출원국가명 | 대한민국 |
| 발명자명 | 이지훈 푸란 순다르쿤와르 |
| 출원/등록기관 | 광운대학교 |
| 활용형태 | 기술이전준비중 | 공동특허여부 | 단독 |
| NDAC 사사 (사사개수) |
Yes (2) | 기여도 | 40 % |
| PDF 파일 |
등록증_10-2278221.pdf
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DATE : 2021-11-04 11:39:25
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