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NDAC

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논문

2단계
Turn-around of threshold voltage shift in amorphous InGaZnO TFT under positive bias illumination stress


차년도  3차년도  세부  1세부
학술지명  Solid-State Electronics 학술지구분  국제
개재년월  20230301 IF  1.916
개재권(호)  201 페이지  108605
ISSN  0038-1101 DOI  https://doi.org/10.1016/j.sse.2023.108605

 

공동연구  공동 JCR 분야  ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
제1저자명  Juwon Kim 교신저자명  Hamin Park
총저자명  Juwon Kim, Hyunjin Kim, Jungyeop Oh, Sung-Yool Choi, Hamin Park

 

NDAC 사사
 (사사개수)
 Y(4) 기여도  25 %
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